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現在的磁盤盤片多數都采用薄膜復合技術。硬盤的介質膜結構大致為:潤滑層、碳覆層、磁性層、緩沖層或底層、基板。
潤滑層和碳覆層器機械和化學保護作用,保護下面的磁性層;磁性層通常為一層多層膜結構,常用材料有CrCoTa,CoNiPt,CrCoPtTa;緩沖層能顯著提高磁性層的磁性能。基片的表面能、粗糙度影響緩沖層的生長,因此可通過對基片表面的精密加工來優化和改善磁性合金層的組織和性能。
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